當前位置:德國韋氏納米系統有限公司>>產品展示>>ANRIC
AT810 經濟性原子層沉積設備是小占地面積臺式系統。采用半導體級金屬密封管路以及兼容高溫的快速脈沖原子層沉積(ALD)閥。用于集成惰性氣體吹掃的超快速質量流量...
AT610 經濟性原子層沉積設備是小占地面積臺式系統。采用半導體級金屬密封管路以及兼容高溫的快速脈沖原子層沉積(ALD)閥。用于集成惰性氣體吹掃的超快速質量流量...
ANRIC推出了目前市場上占地面積最小的原子層沉積(ALD)設備。AT200M 經濟型原子層沉積設備型號體積小巧,足以放入手套箱內,因此成為對濕氣或空氣敏感的沉...
AT410 經濟型原子層沉積設備具備諸多優勢:為占地小的桌面系統,尺寸明確;有新增功能可用的空心陰極射頻源(AT - 410 Plus 配 300W 等離子)
AT650/850P 臺式等離子原子層沉積設備,其以熱系統,配備新高級空心陰極源與 60 MHz RF,有低氧污染等特點;占地小,可容納 6 英寸及更小樣品,可...
AT 臭氧發生器采用高品質元器件,能以極小的體型提供高濃度(最高 12%)臭氧。該系統無需昂貴且笨重的水冷裝置,內置的高速風扇即使在長時間或持續使用時,也能保持...
AT650/850T 臺式熱原子層沉積設備,具備現場升級為等離子體模式的能力,占地面積小(38.1 厘米,寬 15 英寸),可容納直徑為 6 英寸或更小的樣品。
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責,化工儀器網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規避購買風險,建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。